Já ouvimos falar sobre o inevitável circuito mais eficiente em nossos dispositivos, já que o número de nanômetros usados ​​para medir suas dimensões diminui inexoravelmente, mas a unidade de P & D da Toshiba se destacou ao desenvolver processos de 10nm pela primeira vez.

As minuciosas técnicas de fabricação se aplicam aos chips de memória flash que ainda não estão prontos para o grande momento - os cientistas da Toshiba prevêem que ainda estão a quatro gerações de distância -, mas o know-how e os protótipos já estão nos laboratórios.

Tunelamento duplo

De acordo com a pesquisa, algo chamado 'duplo túnel' pode criar caminhos de 10nm que permitem densidades acima de 100Gbits. É seguro dizer que estamos falando de enormes pen drives em poucos anos.

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